铁电存储公司(FMC)和Neumonda联手推出DRAM+——一种下一代内存技术,将传统DRAM的性能与无电源保持数据的能力结合在一起,类似于SSD。
DRAM+的核心是铁电氧化铪(HfO₂),它取代了通常用于存储单元的传统电容器。这一创新保持了DRAM的高速特性,同时消除了保持数据所需的持续电源。之前的尝试使用了铅锆钛酸盐(PZT),但该材料在现代小型化芯片设计中证明难以扩展且成本过高。
与PZT不同,HfO₂与现有的半导体制造工艺完全兼容——即使是使用亚10纳米技术的工艺。这为创建多吉字节内存芯片打开了大门,使DRAM+在数据密度方面成为标准DRAM的有力竞争者。Neumonda将提供其专业测试平台——Rhinoe、Octopus和Raptor——来评估新内存。这些平台旨在低功耗使用,并提供传统设备无法匹敌的深度分析能力。
预计DRAM+首先将在汽车电子、医疗设备和机器学习系统中找到应用。此外,该技术可以在不进行重大改造的情况下集成到当前的生产线中——这一关键优势可能加速其采用。
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